銅仁藥廠純水設(shè)備生產(chǎn)商 都勻純凈水設(shè)備廠家

電泳涂裝線、琉璃清洗線有很多水洗工藝。工件清洗的效果直接影響到產(chǎn)品生產(chǎn)后續(xù)的穩(wěn)定性。水洗一般有自來水噴淋清洗、自來水浸漬清洗、純水浸漬清洗、純水噴淋洗、干凈純水噴淋清洗等各道工序。 電泳涂裝線、琉璃清洗線水洗電導(dǎo)率一般要求在15μS/cm2。
電泳后的水洗：超濾水洗后，工件還需要純水清洗，一般有純水浸洗，再加上一道干凈純水噴淋清洗工序，也是采用逆向流動重復(fù)利用水，即干凈純水清洗工件后，返回到純水洗槽，然后通過純水槽溢流排出。電泳后的純水洗電導(dǎo)率一般要求15μS/cm2。電泳涂裝行業(yè)大型系統(tǒng)一般采用反滲透系統(tǒng)，小型系統(tǒng)可采用離子交換系統(tǒng)，一般用于飾品如表帶、鏡架、手機殼上的面彩色電泳對純水純度更高，需要在后面增加混床或EDI裝置以使產(chǎn)水電導(dǎo)率達到1uS/cm2。
離子交換與反滲透技術(shù)的比較：
離子交換與反滲透相比具有投資成本低的優(yōu)勢
離子交換設(shè)備占地一般反滲透設(shè)備要小
在原水水質(zhì)低于200uS/CM時其運行成本也低于反滲透系統(tǒng)
原水電導(dǎo)率高于500uS/CM時其運行成本會比較高
離子交換器交換飽合后需要用酸、堿進行再生
反滲透不需酸堿再生，無環(huán)保問題
反滲透產(chǎn)水穩(wěn)定性比較好
反滲透操作簡單
反滲透在適合高鹽份(電導(dǎo)率)的水源
用于涂裝行業(yè)的離子交換設(shè)備：
離子交換是通過置換反應(yīng)交換水中的陰(CaCO32-SO42-，HCO3-等)陽(Ca2+， Mg2+，F(xiàn)e2+等)離子，同時釋放H+和OH-產(chǎn)生純水。這種工藝可實現(xiàn)自動化操作，需要酸堿再生， 在原水低鹽份(表現(xiàn)出現(xiàn)電導(dǎo)低于200左右)運行成本和投資成本雙低，但原水電導(dǎo)率達到500uS/CM2，運行成本就比較高了。

RO反滲透設(shè)備
反滲透設(shè)備配置介紹
1、反滲透設(shè)備的預(yù)處理
由多介質(zhì)過濾器、活性碳過濾器、全自動軟水器組成。
多介質(zhì)過濾器：是由全自動控制閥、玻璃鋼罐和不同的級配比的石英砂組成?？捎行У娜コ械膽腋∥锖筒糠帜z體物質(zhì)，降低原水中的濁度。并可自動進行反沖洗。
活性碳過濾器：是由全自動控制閥、玻璃罐和不同凈水級活性碳組成。可有效的吸附原水中的重金屬、游離氯、氯仿等有害物質(zhì)。并可自動進行反沖洗。
食品級軟水器：是由全自動控制閥、玻璃鋼罐和食品級樹脂組成。通過食品級軟水器，可有效去除水中的鈣、鎂離子。使反滲透設(shè)備在運行中不會因為結(jié)垢而影響反滲透膜的使用壽命。并可自動進行再生。
2、反滲透設(shè)備主機部分
反滲透水質(zhì)凈化設(shè)備主機主要由保安過濾器、高壓泵、反滲透膜及各種控制及顯示儀表組成。
保安過濾器：保安過濾器是在原水進入膜以前的后一道保護。它可以有效去除前處理泄漏的大于５μm 的物質(zhì)。主要是防止懸浮微粒進入反滲透膜元件，在膜表面沉積而污染膜元件。
▼ 高壓泵：提供反滲透所需壓力，為溶劑與溶質(zhì)的分離提供保證。高壓泵是反滲透設(shè)備的關(guān)鍵部件。
▼ 反滲透膜組：反滲透膜組是由具有高度有序矩陣結(jié)構(gòu)的聚合纖維組成的。它的孔徑為１－１０埃，即一百億分米到十億分米（相當于大腸大小的六千分，的三千分），利用反滲透膜的分離特性，可以有效的去除溶劑中的溶解鹽、膠體、有機物、重金屬、加氯消毒而產(chǎn)生的三鹵甲烷中間體、和微生物等雜質(zhì)。
▼ 反滲透膜殼：用于容納反滲透膜元件，承壓并產(chǎn)生一個高壓環(huán)境進行反滲透操作。
▼ 計：純水計和濃水計分別測量ＲＯ純水、濃水即時。
▼ 壓力表：測量反滲透設(shè)備各處水壓。
▼ 濃水調(diào)節(jié)閥：用于調(diào)節(jié)ＲＯ設(shè)備的操作壓力、純水和濃比例、純水產(chǎn)量。
▼ 電導(dǎo)率儀：監(jiān)測反滲透出水的電導(dǎo)率。
▼ 低壓開關(guān)：防止ＲＯ高壓泵空轉(zhuǎn)或在超過極限低壓下工作。
▼ 液位控制器：根據(jù)原水水箱以及純水水箱的液位對反滲透設(shè)備自動進行停機或啟動的操作。
▼ 電控系統(tǒng)：含電導(dǎo)率儀等儀器儀表、控制設(shè)備，是反滲透設(shè)備的控制中心。
用反滲透設(shè)備來制造純水、高純水需要根據(jù)每個用戶的行業(yè)特性、設(shè)備產(chǎn)水要求、現(xiàn)場工況等來進行綜合設(shè)計。
反滲透設(shè)備
反滲透簡介hspace=0
RO（Reverse Osmosis）反滲透技術(shù)是利用壓力表差為動力的膜分離過濾技術(shù)，源于美國二十世紀六十年代宇航科技的研究，后逐漸轉(zhuǎn)化為民用，目前已廣泛運用于科研、、食品、飲料、海水淡化等領(lǐng)域。
RO反滲透膜孔徑小至納米級（1納米=10-9米），在一定的壓力下，H2O分子可以通過RO膜，而源水中的無機鹽、重金屬離子、有機物、膠體、、等雜質(zhì)無法通過RO膜，從而使可以透過的純水和無法透過的濃縮水嚴格區(qū)分開來。
一般性的自來水經(jīng)過RO膜過濾后的純水電導(dǎo)率5μs/cm（RO膜過濾后出水電導(dǎo)=進水電導(dǎo)×除鹽率，一般進口反滲透膜脫鹽率都能達到99%以上，5年內(nèi)運行能保證97%以上。對出水電導(dǎo)要求比較高的，可以采用2級反滲透，再經(jīng)過簡單的處理，水電導(dǎo)能小于1μs/cm）, 符合國家實驗室用水標準。再經(jīng)過原子級離子交換柱循環(huán)過濾，出水電阻率可以達到18.2M .cm，超過國家實驗室一級用水標準（GB682—92）。
反滲透原理
RO反滲透設(shè)備采用當代、節(jié)能有效的膜分離技術(shù)，反滲透設(shè)備其原理是在高于溶液滲透壓的作用下，使其他物質(zhì)不能透過半透膜而將其它物質(zhì)和水分離開來。反滲透膜的膜孔徑非常小，因此反滲透設(shè)備能夠有效地去除水中的溶解鹽類、膠體、微生物、有機物等，反滲透設(shè)備可以生產(chǎn)純水、高純水，以滿足不同行業(yè)、不同需求的用戶。
當純水和鹽水被理想半透膜隔開，理想半透膜只允許水通過而阻止鹽通過，此時膜純水側(cè)的水會自發(fā)地通過半透膜流入鹽水一側(cè)，這種現(xiàn)象稱為滲透，若在膜的鹽水側(cè)施加壓力，那么水的自發(fā)流動將受到抑制而減慢，當施加的壓力達到某一數(shù)值時，水通過膜的凈等于零，這個壓力稱為滲透壓力，當施加在膜鹽水側(cè)的壓力大于滲透壓力時，水的流向就會逆轉(zhuǎn)，此時，鹽水中的水將流入純水側(cè)，上述現(xiàn)象就是水的反滲透（RO）處理的基本原理。
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（RO反滲透膜基本原理）
應(yīng)用范圍
太空水、純凈水、蒸餾水等制備； 酒類制造及降度用水； 、電子等行業(yè)用水的前期制備； 化工工藝的濃縮、分離、提純及配水制備； 鍋爐補給水除鹽軟水； 海水、苦咸水淡化； 造紙、電鍍、印染等行業(yè)用水及廢水處理。

一、工藝流程特點
1、本制水系統(tǒng)分預(yù)處理、一級反滲透、精處理二部分組成。預(yù)處理采用機械過濾器、活性炭過濾器、5μm保安濾器。其中機械過濾器除雜質(zhì)和泥沙；活性炭過濾器除有機物和異味； 5μm保安濾器去除大于5μm以上的微粒，保證產(chǎn)水達到反滲透進水的要求。
2、反滲透系統(tǒng)采用美國陶氏的BW型膜元件，能耗低，脫鹽率高、產(chǎn)水量大。
二、系統(tǒng)單元設(shè)備說明
▲機械過濾器：去除水中的沙子、泥巴、鐵銹等懸浮物及部分膠體雜質(zhì)。
▲活性碳過濾器：去除有機物雜質(zhì)、部分臭味，除余氯?？煞乐褂袡C物污染反滲透膜和余氯氧化反滲透膜。
▲5微米保安濾器:去除5微米以上的殘余微粒，防止堵塞反滲透膜。
▲一級高壓泵：給反滲透裝置供水和提供反滲透所需的壓力。
▲一級反滲透裝置：有效去除分子量在200以上的有機物大分子、有毒有害物質(zhì)。對離子的去除率大于99%，使產(chǎn)水電導(dǎo)率小于15μs/cm。
▲純水箱：儲存經(jīng)一級反滲透產(chǎn)純水，起緩沖作用，使水中二氧化碳氣體含量小于5ppm。
▲電控系統(tǒng)：控制整套設(shè)備的運行。
省心：
直飲水設(shè)備（家用，辦公、工廠，商用凈水設(shè)備）一次投資，長期使用！反滲透水處理機產(chǎn)出安全水，水，新鮮水，您從此不再為水質(zhì)不佳而擔心。
省事：
桶裝水需要搬運，更換，等水和結(jié)款。純凈水可直接飲水機，可直接生飲。實現(xiàn)即制即飲。時時都是新鮮水。
省錢：
購買桶裝水累計也是個不小數(shù)目，而直飲水設(shè)備可根據(jù)人數(shù)來定制機型大小。一定比桶裝實惠，健康、安全。
其耗電量低，成本經(jīng)濟，反滲透直飲水設(shè)備已成為單位、工廠飲水。

水質(zhì)：出水水質(zhì)>15MΩ.cm
用途:半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。  超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
    半導(dǎo)體（semiconductor），指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體材料很多，按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導(dǎo)體；化合物半導(dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機半導(dǎo)體等。
光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備，我們公司生產(chǎn)反滲透＋EDI超純水設(shè)備，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗，做過各行業(yè)的水處理設(shè)備，水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備制備工藝：
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) 
  　 2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
水質(zhì)標準：
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備出水水質(zhì)符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標準、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標、集成電路水質(zhì)標準。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域：
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；
生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片；
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；
高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)；
汽車、家電表面拋光處理。
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